在室溫高真空條件下，局部壓力對(duì)解吸的影響是可以忽略的，解吸是由加熱產(chǎn)生的。加熱玻璃表面促使吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔糜胁煌潭鹊脑黾樱@與溫度有關(guān)。外加溫度在100~850C，需要加熱的時(shí)間在10~60min。在超高真空下，為了得到原子級(jí)清潔表面，加熱溫度必須高于450C才行。對(duì)于較高溫度襯底上淀積膜(制備特殊性質(zhì)的膜)的情形，加熱清洗特別有效。但是由于加熱的結(jié)果，也就會(huì)發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^大的團(tuán)粒，并同時(shí)分解成炭渣。然而高溫火焰處理(如氫空氣火焰)效果很好，雖然這個(gè)過程中表面溫度僅約100°C，火焰中存在著各種離子、雜質(zhì)及高熱能分子。一般認(rèn)為， 火焰的清潔作用與一種輝光放電作用相類似，在輝光放電中，離子化的高能粒子撞擊待清潔表面。粒子轟擊和表面上離子的復(fù)合將釋放熱量，也有助于解吸污物分子。